ウエダ　ヨシオ   Ueda Yoshio   上田　良夫    所属   追手門学院大学  理工学部 電気電子工学科    職種   教授
研究期間	2010～2012
研究課題	核融合炉複合照射環境下で高い適応性を有するタングステンの研究
実施形態	科学研究費補助金
採択フラグ	採択
研究委託元等の名称	日本学術振興会
研究種目名	基盤研究(A)
研究機関	大阪大学
代表分担区分	研究代表者
研究者・共同研究者	上田 良夫,大野 哲靖,栗下 裕明,誉田 義英,大塚 裕介
概要	中性子照射耐性が高い微結晶粒タングステン(TFGR-W)および純タングステンについて、核融合炉周辺プラズマ環境における複合イオン照射、および繰り返しパルス熱負荷照射が、水素同位体蓄積や表面状態変化に及ぼす影響を明らかにした。さらに、添加物(TiCとTaC)の評価を行い、今後の材料開発に資する成果を得た。また、ITERのモノブロックに適用可能なサイズのTFGR-Wを、超塑性変形を利用した新しい材料開発法により製造することができた。
PermalinkURL	https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22246121