ウエダ　ヨシオ   Ueda Yoshio   上田　良夫    所属   追手門学院大学  理工学部 電気電子工学科    職種   教授
研究期間	1993～1995
研究課題	真空ポンプ付きリミターによる高温プラズマの熱・粒子制御研究
実施形態	科学研究費補助金
採択フラグ	採択
研究委託元等の名称	日本学術振興会
研究種目名	国際学術研究
研究機関	核融合科学研究所
代表分担区分	研究分担者
国際共著	国際共著
研究者・共同研究者	黒田 勉,SOLTWISCH H.,ESSER H.G.,WINTER J.,PHILIPPS V.,FINKEN K.H.,小越 澄雄,伴野 達也,庄司 多津男,野田 信明,PHILIPPS V,上田 良夫,H.G. Esser,J. Winter,V. Philipps,K.H. Finken
概要	高Zリミター実験で得られた結果を要約すると、 (1)ジュール加熱放電時に、ある限界密度をこえるとモリブデン、タングステン等の不純物イオンの中央集積が起こり、過剰な放射損失によって不安定性が生ずること。このときの不純物濃度は電子密度に対し〜10^<-5>であること。 (2)ネオン入射によっても不純物集積は助長され、中性粒子加熱でも条件によっては放射損失に起因する不安定性がおこること。 (3)リミター表面からスパッタリングされて出るMo,Wの中性原子の電離衝突平均自由行程は、プラズマの平均密度が3×10^<19>/m^3以上では十分短く、予言されていたprompt redepositionは実際に十分起こり得ること。 (4)重水素に対するリミター表面の見かけ上のスパッタリング率の電子温度依存は予想より小さく、酸素、炭素等の軽元素イオンによるスパッタリングの寄与が大きいことを示す結果になっていること。 (5)モリブデンリミターが溶融する条件でも、周辺部のシールデイングによりプラズマ中へのMo侵入は小さいこと。
PermalinkURL	https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05044115